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本申请公开了一种半导体加工腔体,包括:载片台、加热组件、匀热板、降温组件、温度测试器和控制器;载片台用于承载待处理物品;加热组件与载片台之间设有匀热板,匀热板与温度测试器连接,温度测试器用于检测匀热板的温度;温度测试器与控制器连接,控制器分别与加热组件和降温组件连接,控制器用于控制加热组件的工作状态和/或降温组件的工作状态。本申请提供的半导体加工腔体可以同时提高载片台的升降温速率、温度均匀性以及实现精准的温度曲线控制。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117524928A
(43)申请公布日2024.02.06
(21)申请号202311472225.2
(22)申请日2023.11.07
(71)申请人无锡尚积半导体科技有限公司
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