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本发明提供了一种位置测量方法、位置测量系统以及光刻设备，位置测量系统，包括被测目标、读头和光源，所述读头包括第一分光单元和反向回射元件，所述光源发射的光束经所述第一分光单元分成方向不同的第一光束和第二光束，所述第一光束和第二光束经所述被测目标衍射后形成第一衍射光束和第二衍射光束，所述第一衍射光束和第二衍射光束均包含正负级次衍射光束，通过调整所述反向回射元件与所述被测目标上的衍射点的物理距离或光程距离，以分别实现所述第一衍射光束对应的正负级次衍射光束的光程相等以及所述第二衍射光束对应的正负级次衍射
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117537704A
(43)申请公布日2024.02.09
(21)申请号202210923528.0
(22)申请日2022.08.02
(71)申请人上海微电子装备（集团）股份有限公
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