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本发明公开了一种硅微桥压阻式MEMS温度传感器及其制作方法,所述传感器采用硅微桥双层膜结构,且制作在SOI器件上,下层为SOI器件的顶层硅,所述顶层硅上通过离子注入工艺形成压敏电阻;上层为通过溅射工艺形成的金属铝层;所述硅微桥下方悬空,且不与所述SOI器件的衬底硅相连接。该传感器结构相对稳定,且灵敏度高,硅微桥为可动结构,发生热膨胀时,压敏电阻值发生变化,通过电路的连接可以检测出电阻值的变化,基于电阻值的变化与温度变化呈现的数值关系,从而实现温度的测量。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN109399554A
(43)申请公布日
2019.03.01
(21)申请号20181
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