一种用于小口径靶管的磁控溅射使用的磁场分布装置.pdfVIP

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2024-02-14 发布于四川
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一种用于小口径靶管的磁控溅射使用的磁场分布装置.pdf

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本实用新型涉及一种用于小口径靶管的磁控溅射使用的磁场分布装置。在小尺寸磁控溅射靶管中，为了兼顾磁场强度以及回水管，导致尺寸比较拥挤；另外一方面，由于尺寸较小，如何提高小尺寸靶管的磁场强度也是行业内的痛点。本实用新型包括磁轭和设置在磁轭下部的回水管，其特征在于所述的磁轭包括承托底座，所述的承托底座在两侧形成侧壁，位于承托底座的中心沿磁轭轴向布置磁铁管，所述的磁铁管内布置磁铁，所述磁铁的磁极垂直于磁铁的安装面。本实用新型通过对磁轭结构的改进，使磁轭上能安装更大规格的单列磁铁，降低成本且提高了磁场强度

(19)国家知识产权局

(12)实用新型专利

(10)授权公告号CN220485814U

(45)授权公告日2024.02.13

(21)申请号202321768594.1

(22)申请日2023.07.07

(73)专利权人晓睿真空设备（嘉兴）有限公司

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