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本发明提供了一种斜路径电离层插值不确定度分析方法及系统，包括：获取不同插值方法在选定区域中所对应的插值结果；对所述插值方法结果分别通过时间、距离和高角度关系进行分析处理；根据所述分析处理的结果建立对应的数学函数表达式；在用户端根据所述数据函数表达式获得更加合理的不确定度参数，作为电离层改正数的方差。本发明通过分析斜路径电离层插值结果与插值方法、时间、卫星高度角和测站距离的关系，拟合对应的数学函数表达式。再将该函数表达式应用到用户端，获得插值后的电离层改正数信息的不确定度参数。为电离层改正数不确定
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117555001A
(43)申请公布日2024.02.13
(21)申请号202311502875.7
(22)申请日2023.11.10
(71)申请人上海交通大学
地址200240
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