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根据本公开的示例实施例，提供了确定掩模扰动信号的方法、设备和计算机可读存储介质。确定掩模扰动信号的方法包括：多次增大掩模上第一区域内的子区域，直至子区域的尺寸与第一区域的尺寸一致；响应于每次增大，分别确定与增大后的子区域对应的图像强度值，图像强度值表示光刻时子区域将在晶圆上产生的图像信号的强度值；以及基于所确定的图像强度值，确定第一区域内的第二区域的扰动将在晶圆上产生的扰动信号。本公开的实施例能够快速确定掩模扰动信号，进而能够确定用于掩模移动的方向和移动量，以得到高质量的掩模。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN113671804A
(43)申请公布日2021.11.19
(21)申请号202110982237.4
(22)申请日2021.08.25
(71)申请人全芯智造技术有限公司
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