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本实用新型公开了微泡清洗装置、硅材料清洗设备、硅片加工设备及电镀设备，微泡清洗装置包括：微泡发生器，其用于制备微泡清洗液；清洗执行部件，其使用微泡清洗液对基片进行清洗，清洗执行部件为用于盛装微泡清洗液的微泡清洗槽或者用于向外喷淋微泡清洗液的喷淋头。采用该微泡清洗装置的设备包含硅芯清洗机、硅片清洗机、硅料清洗机、RCA清洗机、硅片吸杂前清洗机、制绒设备、碱抛光设备、硅片电镀设备以及薄膜电镀设备中的至少一种。本实用新型使用微泡清洗液对基片进行清洗，通过同种电荷之间相斥的原理，去除基片表面颗粒，大大提
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号CN220491842U
(45)授权公告日2024.02.13
(21)申请号202321048555.4B08B1/34(2024.01)
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