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本发明公开了一种应用于半导体生产用的臭氧发生器，包括机体，所述机体的一侧安装有气体过滤组件，所述气体过滤组件包括进风过滤管，所述进风过滤管的一侧顶部设置有进风口，所述进风过滤管的内侧安装有除尘内筒，所述除尘内筒上安装有除尘活性炭滤芯，所述进风过滤管的另一侧安装有进气扰流管，所述进气扰流管贯穿进风过滤管设置在除尘内筒上；通过设置的该带有气体过滤组件的结构，当使用该装置制取臭氧时，可将气体通过过滤组件，从而将气体中的杂质与异味进行过滤，避免气体中含有杂质进入设备内部，提高臭氧的制取纯度，并且清洁后的
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117550558A
(43)申请公布日2024.02.13
(21)申请号202410009504.3
(22)申请日2024.01.04
(71)申请人九未实业（上海）有限公司
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