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本实用新型提供了一种中高频加热式硅氧负极流化CVD装置,所述CVD装置包括:进料单元、反应单元、分离器、收集单元、电控单元和气源单元,其中,进料单元与反应单元的入口通过管道连接,进料单元包括进料仓和分级构件。其中,分级构件设置在位于所述进料仓内并与管道连通,分级构件用于控制物料的粒径区间;所述分离器与收集单元和尾气处理器相连接,用于分离包覆后的物料和尾气;电控单元被配置为控制流化系统的参数;气源单元通过输气管与进料单元和反应单元连接,提供惰性气源和碳源气。本实用新型提供的CVD装置能够提高温度的
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号CN220485832U
(45)授权公告日2024.02.13
(21)申请号202321465536.1C23C16/26(2006.01)
(22)申请日2023.06.
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