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本发明公开了一种高性能铁氧体磁瓦轮廓打磨装置及其打磨方法，属于磁瓦生产技术领域。该装置包括：清洗烘干单元；螺旋振动单元；以及研磨料进料单元，研磨料进料单元包括基座、加料直振器和置于基座上的料仓，所述加料直振器设置在基座上方，所述料仓置于加料直振器上方，所述料仓设置有倾斜导料槽，所述导料槽倾斜延伸至所述螺旋振动单元上方，所述料仓中存储有研磨料，通过加料直振器将研磨料间歇性的输送至所述螺旋振动单元中，所述研磨料为莫氏硬度不超过5的无机材料，选用BaSO4、CaSiO4、CaSiO3或者γ‑AlOOH
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117564923A
(43)申请公布日2024.02.20
(21)申请号202311787934.X
(22)申请日2023.12.22
(71)申请人中钢天源（马鞍山
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