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2024-02-21 发布于四川
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一种光刻胶、光刻胶应用以及应用工艺.pdf

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本发明公开了一种光刻胶、光刻胶应用及其应用工艺，所述光刻胶，以总质量为100%计，包括10‑30%的光刻胶粘剂、60‑90%的导电金属粉、1‑3%的交联剂、1‑5%的光引发剂、1‑3%的丙烯酸酯单体、5‑15%的溶剂以及1‑3%的助剂；所述光刻胶粘剂包括改性丙烯酸树脂。本发明所述光刻胶一方面兼具感光性和导电性，将本发明所述光刻胶在图形化时，简化了操作步骤，提升了制备效率，另一方面在曝光时二次固化，提升了曝光固化后与基材之间的粘接性能，提升与基材之间的附着力，进而提升了图形化精度。

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117572722A

(43)申请公布日2024.02.20

(21)申请号202311547650.3

(22)申请日2023.11.20

(71)申请人乾宇微纳技术（深圳）有限公司

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