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本实用新型属于镀膜机技术领域，公开一体式磁控溅射镀膜机；包括处理箱，其内底部设有磁控靶；处理箱内两侧壁均设有升降板，两侧的升降板之间设有连接板；连接板的下方设有放置单元；放置单元包括转轴、转板；转轴转动连接在连接板的底部；转轴的底部连接转板，转板的两侧分别设有固定块，两个固定块的相对侧均设有连接块，两个连接块的上下两端均滑动设有基片放置框；本实用新型通过控制双向螺杆转动，使得上下两块基片放置框相向运动或相背运动，便于上下两侧的基片放置框对样品进行限位，避免外部撞击时样品偏移影响到镀膜效果，并通过
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号CN220503174U
(45)授权公告日2024.02.20
(21)申请号202322208191.8
(22)申请日2023.08.17
(73)专利权人扬州大学
地址225009
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