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本发明属于半导体集成电路器件制造领域,具体的说是一种肖特基二极管的制备方法;首先选取晶圆作为衬底;然后在所述晶圆底衬上生长基座层;之后在所述基座层上表面沉淀分隔层;在之后在分隔表面进行刻蚀;最后使用PVD溅镀法生长氮化钛金属层,生长完成再经过封装后,使用检测装置进产品的良品检测;所述检测装置包括:外壳;所述外壳内滑动连接有托盘;所述托盘延伸出外壳的一侧表面固连有把手;所述托盘的上表面固连有检测台;通过本制备方法制备出的肖特基二极管,降低了金属电镀层所受的损伤,进而提高了金属‑半导体结处金属层的质
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN115223856A
(43)申请公布日2022.10.21
(21)申请号202210788711.4C23C14/06(2006.01)
(22)申请日2022.07.
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