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本发明属于光学测量技术领域，公开了一种光刻胶曝光过程动态形貌原位高速测量装置及方法，其由测量光路模块和曝光光路模块组成，在测量光路中，测量光源发出的探测光依序经同步快门、反射镜、起偏器、光弹调制器调制后照射到样本表面并反射，反射光束被两分束器分成光强大致相同的三束光，分别遭受不同规格的波片和偏振分束器的解调，进而由6个光电倍增管感知瞬时光强；根据测量光强并结合测量系统光学模型，提取出样本的测量穆勒矩阵，进而根据样本光学模型求得样品三维形貌，以实现光刻胶曝光过程的动态监测。本发明具有高时间分辨率、
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117590702A
(43)申请公布日2024.02.23
(21)申请号202311493514.0
(22)申请日2023.11.09
(71)申请人华中科技大学
地址430074
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