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本发明提供了一种光掩模加工装置和方法。该光掩模加工装置包括光源、包括设置有多个图案的第一表面的光掩模、配置为检测包括至少一个目标校正图案的目标校正区域的检查器、以及包括多个镜块的数字微镜设备(DMD)，并且DMD还配置为将多个镜块中与光掩模的第一表面的目标校正区域相对应的镜块切换为开启状态，并且将与多个镜块中的非校正区域相对应的镜块切换为关闭状态，该非校正区域是除了光掩模的第一表面上的目标校正区之外的区域。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117590685A
(43)申请公布日2024.02.23
(21)申请号202310882031.3G03F1/42(2012.01)
(22)申请日2023.07.1
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