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本发明提供一种在位精密检测微光学元件结构面型的方法,包括:将白光干涉仪放置于机床的第一旋转轴上,将工件放置于机床的第二旋转轴上;调整白光干涉仪镜头光轴与机床第二旋转轴中心重合;对工件进行加工,保持工件在第二旋转轴上的位置不发生变化;白光干涉仪响应于机床发送的触发信号,按照规划的移动路径对加工后工件的结构面型进行多次拍摄;结构面型包括平缓结构和陡峭结构。还提供了一种在位精密检测微光学元件结构面型装置,包括:机床,白光干涉仪,拼接路径规划及控制系统和图形拼接合成软件。本发明可以实现对微光学元件进行在
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117589083A
(43)申请公布日2024.02.23
(21)申请号202311534679.8
(22)申请日2023.11.17
(71)申请人中国科学院重庆绿色智能技术研究
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