一种清洗装置.pdfVIP

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  • 2024-02-24 发布于四川
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本实用新型公开了一种清洗装置,包括:转盘,转盘上圆周排布有多个用于容纳反应杯的杯位;清洗组件,各清洗组件沿转盘的周围依次分布,包括注液针和清洗针;按反应杯清洗顺序,最后一组注液针和清洗针之间对应的杯位的一侧设置有高度逐步降低的多个磁块组。本申请靠近加注机构的磁块组高度逐渐降低可使更多的磁珠聚集成一团而非分散聚集于反应杯的不同高度,进而可使得磁珠更加彻底地与激发液发生反应,保证发光量充足而测量结果准确。

(19)国家知识产权局

(12)实用新型专利

(10)授权公告号CN220514890U

(45)授权公告日2024.02.23

(21)申请号202322021200.2

(22)申请日2023.07.31

(73)专利权人基蛋生物科技股份有限公司

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