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- 2024-02-28 发布于四川
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本发明一种半导体存储单元及其阵列结构,属于半导体和CMOS混合集成电路技术领域。本发明半导体存储单元包括NMOS管N1、NMOS管N2和存储器件R,其中,N1的漏极连接N2的漏极,形成共用结构,N1的源极和N2的源极都连接源线SL,N1栅极接字线WL1、N2栅极接字线WL2,存储器件R一端接位线BL,另一端接N1、N2漏极连接处;将该存储单元沿横向、纵向重复排列成阵列结构,其中,同一行存储单元共用一条源线SL、共用一条位线BL,同一行上相邻存储单元的相邻NMOS管的源极相连至该行源线SL,同一列
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117615581A
(43)申请公布日2024.02.27
(21)申请号202311782146.1G11C11/408(2006.01)
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