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                本发明提供一种静电吸盘及晶圆测试方法,静电吸盘包括用于承载待吸附物的基板;设置在基板的上方的绝缘层,其通过静电力吸附待吸附物;设置在基板和/或绝缘层中的导电部,其与待吸附物的背面的至少部分区域接触。晶圆测试方法采用上述静电吸盘吸附晶圆,并通过导电部导通真空吸盘和晶圆背面。本发明的静电吸盘可以放置在Taiko晶圆背面的凹陷区,使得Taiko晶圆的背面整体呈平面式,可以直接放置在传统测试机台的平面式的真空吸盘上进行测试。non‑Taiko晶圆的背面也可以放置与其尺寸相当的静电吸盘,不影响其在传统机台
                    (19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN111613563A
(43)申请公布日
2020.09.01
(21)申请号20191
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