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双功能反应设备.pdfVIP

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    本发明提供一种双功能反应设备，包括：双功能反应炉、气源柜及排气柜；其中，双功能反应炉用于待处理基底表面材料层的生长及刻蚀，所述双功能反应炉包括：用于放置待处理基底的炉管、炉体、加热装置、与所述炉管内部相连通，且用于向所述炉管内通入生长气体或刻蚀气体的进气口组件、排气口、用于将所述炉管与外部连通或隔离，并向所述炉管内传入或传出所述待处理基底的炉门组件、供气系统及排气系统。本发明即可以在待处理基底表面生长材料层，又可以对待处理基底表面存在的材料层进行刻蚀，具有生长及刻蚀双重功能；本发明的双功能反应炉

    (19)中华人民共和国国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN108039332A

    (43)申请公布日

    2018.05.15

    (21)申请号20171

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