表面清洁设备、基站以及清洁系统.pdfVIP

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  • 2024-02-29 发布于四川
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本实用新型公开一种表面清洁设备、基站以及清洁系统。所述表面清洁设备包括设备主体、收纳容器、设备水箱以及第一自清洁机构,所述收纳容器设于所述设备主体,并用于收纳垃圾。所述设备水箱设于所述设备主体。所述第一自清洁机构包括第一喷头和第一水泵,所述第一喷头设于所述收纳容器内,所述第一水泵通过管路连通于所述设备水箱和所述第一喷头之间。所述表面清洁设备通过增设第一自清洁机构,而清洗收纳容器的内表面上附着的垃圾,减少收纳容器内垃圾的残留,实现了收纳容器的自清洁,提高了清理后或者排空后的收纳容器内的洁净度,可以

(19)国家知识产权局

(12)实用新型专利

(10)授权公告号CN220529904U

(45)授权公告日2024.02.27

(21)申请号202321705706.9

(22)申请日2023.06.30

(73)专利权人追觅创新科技(苏州)有限公司

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