一种PECVD设备的尾气处理结构.pdfVIP

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  • 2024-03-02 发布于四川
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本发明公开一种PECVD设备的尾气处理结构,包括防气流反冲管道和过滤器,剩余气体与残留粉尘从反应腔中流向防气流反冲管道与过滤器后通过真空管道被抽到真空泵中;残余粉尘在流经过滤器时被过滤掉,不会造成真空泵堵塞。剩余气体与粉尘反冲时,气体与粉尘从防气流反冲管道的右端进入,防气流反冲管道的半球状结构则会出现反向回流,该反向回流则会阻碍剩余气体与粉尘的反冲,从而达到防气流反冲导致腔室污染的效果。本发明提供的PECVD设备的尾气处理结构可以有效的防止真空泵被反应腔残留的粉尘堵塞,极大的延长了真空泵的保养时

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117619069A

(43)申请公布日2024.03.01

(21)申请号202311837758.6

(22)申请日2023.12.28

(71)申请人湖畔光电科技(江苏)有限公司

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