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用于处理基板的设备及用于处理基板的方法.pdfVIP

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  • 2024-03-09 发布于四川
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用于处理基板的设备及用于处理基板的方法.pdf

    本发明构思提供一种基板处理设备。基板处理设备包括具有一处理空间的一壳体；一支撑单元，其位于处理空间中且经配置以供应一电力并且支撑一基板；以及一等离子体控制单元，其经配置以改变形成于处理空间中的一等离子体的一特性。其中，等离子体控制单元包括位于支撑单元上方的一间隙控制板；以及，改变间隙控制板位置的一板驱动器，且板驱动器维持间隙控制板的一底表面与支撑板的一顶表面之间的一间隙，并通过改变间隙控制板的位置以改变等离子体的特性。

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117672800A

    (43)申请公布日2024.03.08

    (21)申请号202311160879.1

    (22)申请日2023.09.08

    (30)优先权数据

    10-2022-0114193

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