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本发明涉及基板清洗领域，具体涉及一种防交叉污染基板清洗装置，包括承载旋转机构、喷淋机构、UV光照机构和氮气喷射机构，承载旋转机构用于支撑定位并带动基板旋转；喷淋机构至少用于向所述基板中间区域喷淋清洗液，所述清洗液在基板的旋转作用下形成水膜并被甩出，被配置为在UV光照的作用下产生OH自由基；UV光照机构位于所述基板上方，至少用于向所述基板表面的清洗液提供UV光照；氮气喷射机构用于向所述UV光照机构和所述基板之间喷射氮气以至少在水膜和所述UV光照机构之间形成氮气隔离层。本发明能够避免基板交叉污染，还
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117672917A
(43)申请公布日2024.03.08
(21)申请号202311678041.1
(22)申请日2023.12.07
(66)本国优先权数据
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