原创力文档- 11
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- 2024-03-09 发布于四川
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本公开涉及用于多重曝光的版图生成方法、电子设备及存储介质。用于多重曝光的版图生成方法包括：基于版图的设计参数生成无向图参数，其中无向图参数用于定义无向图；基于无向图参数生成无向图，无向图包括节点和连接节点的链接；确定无向图中是否存在冲突；响应于无向图中存在冲突，对无向图进行修正直至生成无冲突的无向图；以及基于无冲突的无向图生成优化的版图。本公开实施例的方法能够提高版图中冲突检测的效率，降低后续芯片制造过程中产生缺陷的概率，从而提高芯片性能。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117669474A
(43)申请公布日2024.03.08
(21)申请号202410132504.2
(22)申请日2024.01.30
(71)申请人全智芯（上海）技术有限公司
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