用于获得关于以CVD法沉积的层的信息的方法和设备.pdfVIP

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  • 2024-03-09 发布于四川
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用于获得关于以CVD法沉积的层的信息的方法和设备.pdf

本发明涉及用于获得关于由多个依次进行的步骤构成的过程的信息的方法,该过程用于在反应器(14)的过程腔中的衬底上沉积至少一个层、尤其半导体层,其中,以时间序列将用于致动器的调节数据(SD)、传感器的测量值(MW)作为原始数据(RD)和其时间基准一起存储在日志文件中。通过使用原始数据应获得关于沉积的层的品质的认识。为此借助计算装置通过原始数据的关系建立从原始数据获得过程参数,通过分析过程参数的时间变化曲线识别过程步骤的开始和结束以及过程步骤的类型;针对过程步骤的至少一些,从测量值形成对应于过程步骤的

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117660934A

(43)申请公布日2024.03.08

(21)申请号202311430530.5H01L21/67(2006.01)

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