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本发明提供了一种用于复合铜箔的界面修饰层薄膜，所述界面修饰层薄膜为MW合金薄膜；其中，所述M为钝化元素，所述M选自Cr、Ta、Ti、W中的至少两种；所述W为导电金属，所述W选自Mo、Ni、Nb、Sn、Tb、Nd中的至少两种。本发明通过改进薄膜配方调控，制备了新型的Mo‑Ta‑Ti‑Cr‑Ni、Nb‑W‑Ti‑Sn‑Tb、Ta‑W‑Nd‑Cr‑Sn界面修饰层复合薄膜，该新型的复合薄膜不仅导电性更佳，还具有良好的化学稳定性，耐水汽、耐氧化以及耐电镀液腐蚀性能，当采用该新型界面修饰层制备锂电池复合铜箔
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117691120A
(43)申请公布日2024.03.12
(21)申请号202311712161.9
(22)申请日2023.12.13
(71)申请人广东欧莱高新材料股份有限公司
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