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一种用于地下连续墙的导墙的校正工艺.pdfVIP

一种用于地下连续墙的导墙的校正工艺.pdf

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    本发明公开了一种用于地下连续墙的导墙的校正工艺，包括如下步骤：倾斜度判定步骤：比较相对设置的两个导墙的倾斜度。松土步骤：在右侧导墙的背后开挖泥土，使得右侧导墙背后的泥土综合密度小于左侧导墙的泥土综合密度。架设载体步骤：取框架，框架包括横跨结构、连接于横跨结构的悬吊支架；将横跨结构搭接在左侧导墙和右侧导墙上，并受左侧导墙和右侧导墙承托。安装直线顶推设备步骤：将直线顶推设备置于悬吊支架上，直线顶推设备与左侧导墙贴合，直线顶推设备的输出端连接有回顶杆。校正步骤：启动直线顶推设备，迫使左侧导墙与右侧导向

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117684547A

    (43)申请公布日2024.03.12

    (21)申请号202410076866.4

    (22)申请日2024.01.18

    (71)申请人中国建筑第四工程局有限公司

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