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本申请涉及铜箔生产技术领域，提供了一种溶铜装置。该溶铜装置包括罐体、循环管路和输气管，罐体沿自身轴向划分有气体分布区和液体分布区，且罐体构造有位于气体分布区的进料口；循环管路连通于液体分布区，且构造有负压区域，输气管与负压区域连通；其中，罐体内的液体能够沿循环管路循环流动，输气管被配置响应于负压区域的压强变化而引入气流。该溶铜装置通过在循环管路上设置负压区域，使得与之连接的输气管的两端产生压差，以利用压差吸入气体罐体内，与罐体内的液体充分接触形成大量含氧气泡，提高氧气有效利用率，从而提高溶铜效率
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号CN220573156U
(45)授权公告日2024.03.12
(21)申请号202321822792.1C25D21/00(2006.01)
(22)申请日2023.07.
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