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气平衡外圆抛光机，涉及抛光设备技术领域，包括工作台，工作台上设有沿工件轴向设置的夹持装置，工作台上沿工件轴向滑动设有磨抛工作台，磨抛工作台上设有沿工件径向分居于工件两侧的打磨组件以及抛光组件，打磨组件以及抛光组件沿工件径向独立滑动设置。本发明解决了传统技术中的抛光装置对工件抛光时，在进给过程中受到打磨碎屑的影响，进给机构无法稳定的进给，且产生较大的噪音；以及当工件长度较长时，工件在水平方向易出现较大的颤动，直接影响了抛光精度的问题。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117681107A
(43)申请公布日2024.03.12
(21)申请号202410138807.5B24B47/12(2006.01)
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