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- 2024-03-16 发布于四川
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一种光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质，方法包括：对理想轮廓位于缺陷处的评估点进行调整处理，获得调整评估点；调整处理包括：沿理想轮廓的法线方向调整理想轮廓位于缺陷处的原始评估点的位置，适于增大修正后图形对应的仿真轮廓和理想轮廓之间边缘放置误差的绝对值；对修正后图形进行一次或多次循环迭代的修复处理，每次修复处理包括：以调整评估点作为理想轮廓的评估点，基于修正后图形对应的仿真轮廓与理想轮廓之间的差值，对修正后图形进行全局调整处理；判断修正后图形对应的仿真轮廓与理想轮廓之间的差值是否在预设
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117706859A
(43)申请公布日2024.03.15
(21)申请号202211085490.0
(22)申请日2022.09.06
(71)申请人中芯国际集成电路制造（上海）有限
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