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2024-03-16 发布于四川
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一种双面对位曝光设备.pdf

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本实用新型公开了一种双面对位曝光设备，包括输送曝光台以及固定安装在输送曝光台上的双面曝光主机，输送曝光台顶端的两侧均固定设置有延伸至双面曝光主机内部的曝光导架，曝光导架的内部固定设置有两个引导滑架，曝光导架与两个引导滑架之间转动设置有改向齿轮，两个引导滑架上均滑动设置有内齿滑杆，两个内齿滑杆的内侧分别与改向齿轮的两侧啮合连接，曝光导架内壁的顶部固定安装有电控推杆，本实用新型一种双面对位曝光设备，该双面对位曝光设备采用穿梭式的双曝光平台式设计，在使用过程中，一个平台可正常进行曝光作业，另一个平台可

(19)国家知识产权局

(12)实用新型专利

(10)授权公告号CN220603846U

(45)授权公告日2024.03.15

(21)申请号202322252763.2

(22)申请日2023.08.22

(73)专利权人福建飞达文化产业发展有限公司

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