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2024-03-16 发布于四川
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一种半导体生产用清洗液处理装置.pdf

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本发明涉及半导体加工处理设备相关技术领域，更具体地说，本发明提供了一种半导体生产用清洗液处理装置，包括混合机构、驱动机构和定量输送机构；所述定量输送机构用于将处理剂管中的处理剂定量输送到混合箱的混合室中，所述混合室还与清洗液管连通；本发明通过设置的混合机构，由于第二锥形块为锥形结构，而且混合轴的端部与第二锥形块的侧壁连接，因此混合轴会随着混合连轴的转动而绕着第二锥形块圆周摆动，从而实现带动混合轴在混合室内圆周摆动的作用，增加了混合叶片在混合室内运动的范围，进而起到提升将清洗液与处理剂混合的作用，

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117699880A

(43)申请公布日2024.03.15

(21)申请号202311778477.8

(22)申请日2023.12.22

(71)申请人苏师大半导体材料

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