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- 2024-03-16 发布于四川
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本发明提供一种存储器，包括：堆叠结构，设置于衬底上方，其中所述堆叠结构包括相互交替的多个叠层与多个隔离层，且每一叠层包括：第一源极与漏极层；绝缘层，设置于所述第一源极与漏极层上；第二源极与漏极层，设置于所述绝缘层上；以及沟道层，设置于所述绝缘层的侧壁，且所述沟道层的下表面与所述第一源极与漏极层连接，所述沟道层的上表面与所述第二源极与漏极层连接。所述存储器还包括栅极柱穿过所述堆叠结构；以及电荷存储结构，设置于所述沟道层与所述栅极柱之间。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117715430A
(43)申请公布日2024.03.15
(21)申请号202211041237.5
(22)申请日2022.08.29
(71)申请人华邦电子股份有限公司
地址中国
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