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本发明提出了一种制作选择栅与字线的双重图案方法，包含在一目标层上形成第一串列图案，该第一串列图案包含字线图案与选择栅图案、在第一串列图案上形成共形的间隔层，其中该间隔层在第一串列图案之间形成沟槽、在该间隔层上形成一填充层，该填充层填满该些沟槽、移除沟槽外的填充层，如此沟槽中的填充层形成第二串列图案，第二串列图案与第一串列图案间隔排列、移除裸露的间隔层，如此第一串列图案与第二串列图案在目标层上构成间隔排列的目标图案、以及以该些目标图案为掩模进行蚀刻制作工艺移除裸露的目标层，如此形成字线与选择栅。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117715425A
(43)申请公布日2024.03.15
(21)申请号202211149733.2
(22)申请日2022.09.21
(30)优先权数据
1111337122022.
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