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- 2024-03-20 发布于四川
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本实用新型属于半导体晶体生长技术领域,特别涉及一种晶体生长装置,其包括:坩埚;第一接触加热组件,周向设置在所述坩埚的侧壁外;第二接触加热组件,周向设置在所述坩埚的侧壁外且位于所述第一接触加热组件上方;该晶体生长装置能够有效地增大籽晶与反应粉料升华气体的温度差,进而有效地提高物理气相传输法的结晶速度。
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号CN220619188U
(45)授权公告日2024.03.19
(21)申请号202221225198.X
(22)申请日2022.05.19
(73)专利权人季华恒一(佛山
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