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本发明提供了一种抛光垫清洗装置和抛光垫清洗方法，涉及半导体技术领域，所述抛光垫清洗装置包括：固定支架；通过连接臂与固定支架连接的清洁喷嘴，清洁喷嘴能够围绕固定支架转动，在清洁喷嘴转动至上抛光垫和下抛光垫之间时，清洁喷嘴用于向上抛光垫和下抛光垫喷射清洁液；与清洁喷嘴固定连接的检测组件，检测组件包括发射组件和接收组件，发射组件用于向下抛光垫发射检测信号，接收组件用于接收经过下抛光垫或硅片载盘反射的检测信号；处理器，用于获取检测信号的反射结果，根据反射结果确定检测信号是由下抛光垫反射还是由硅片载盘反射
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117718888A
(43)申请公布日2024.03.19
(21)申请号202311749491.5
(22)申请日2023.12.19
(71)申请人西安奕斯伟材料科技股份有限公司
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