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盖体装置、工艺腔室及半导体工艺设备.pdfVIP

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  • 2024-03-20 发布于四川
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盖体装置、工艺腔室及半导体工艺设备.pdf

    本发明公开一种盖体装置、工艺腔室及半导体工艺设备，其中，所公开的盖体装置包括盖体(12)、固定座(41)和盖体座(42)，所述盖体座(42)的第一端转动地连接于所述固定座(41)上，所述盖体座(42)的第二端可绕所述盖体座(42)的第一端转动，以使所述盖体座(42)在第一状态与第二状态之间切换；在所述盖体座(42)处在所述第一状态下，所述盖体(12)相对于预设平面倾斜，并可相对于所述盖体座(42)移动；在所述盖体座(42)处在所述第二状态下，所述盖体(12)与所述预设平面平行。上述方案能解决相关

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117727660A

    (43)申请公布日2024.03.19

    (21)申请号202311737419.0

    (22)申请日2023.12.15

    (71)申请人北京北方华创微电子装备有限公司

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