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一种外延反应器的调温装置及外延反应器.pdfVIP

一种外延反应器的调温装置及外延反应器.pdf

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    本发明提供一种外延反应器的调温装置及反应器，其调温机构中空，其内通有调温介质，调温机构包括输入通道、流体加热腔、调温腔、输出通道四部分，调温腔位于反应腔的下方，其长度等于或大于所述反应腔放置衬底的区域的长度。本发明还提供一种半导体外延反应器，所述反应器包括感应线圈、石英管、保温层、发热体、一个或多个反应腔，以及前面所述的调温机构。通过调温装置的作用，能够调节均衡衬底中心和衬底边缘的温度，从而使得衬底上生成的外延层边缘和中部的厚度和生成物质掺杂分布均匀，提高产品质量。并且能够调节多个基座之间的相对

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117721527A

    (43)申请公布日2024.03.19

    (21)申请号202311461434.7

    (22)申请日2023.11.06

    (71)申请人厦门大学

    地址361005

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