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本实用新型关于一种单横模半导体激光器,涉及半导体激光器技术领域。包括衬底、下波导盖层、有源层、上波导盖层和欧姆接触层;衬底、下波导盖层、有源层、上波导盖层和欧姆接触层由下至上依次设置,衬底的下方以及欧姆接触层的上方均设置有电极;上波导盖层为p型掺杂,下波导盖层为n型掺杂,上波导盖层、有源层、下波导盖层共同构成P‑I‑N结构。本实用新型提出的半导体激光器可实现宽波导下的单横模工作。
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号CN220628484U
(45)授权公告日2024.03.19
(21)申请号202321904269.3
(22)申请日2023.07.19
(73)专利权人华中科技大学
地址43007
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