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本发明提供一种处理基板的设备。处理基板的设备可包括：外壳，前述外壳具有处理基板的处理空间；视窗单元，前述视窗单元覆盖前述处理空间的上部，以便使前述处理空间密闭；支撑单元，前述支撑单元在前述处理空间中支撑基板；气体供应单元，前述气体供应单元包括向前述处理空间供应气体的喷嘴；以及等离子体单元，前述等离子体单元配置于前述处理空间的外部并使得从前述气体产生等离子体；而且，前述喷嘴包括：主体，前述主体形成有内部空间和将前述内部空间内的前述气体供应给前述处理空间的排出口；以及插入构件，前述插入构件插入于前述
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117730404A
(43)申请公布日2024.03.19
(21)申请号202280052938.0(74)专利代理机构北京律智知识产权代理有限
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