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本发明提供一种低损耗软磁带材的制备方法及装置,属于软磁损耗技术领域,方法包括:在软磁带材的放带过程中于软磁带材表面的至少一侧进行纹路刻蚀,以形成至少一连续的刻蚀图案。有益效果:本发明通过在软磁带材的表面进行纹路刻蚀,形成连续的刻蚀图案,增大软磁磁芯的电阻率,以达到降低涡流损耗的目的;另外,在制备软磁磁芯的热处理过程中,连续的刻蚀图案的纹路能够有利于内应力的释放,进而提高软磁带材的磁导率;同时刻蚀图案的连续性使得刻蚀作业快速,刻蚀操作简单,可操作性强,可满足批量化生产的要求。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117727551A
(43)申请公布日2024.03.19
(21)申请号202311497126.X
(22)申请日2023.11.10
(71)申请人宁波中益赛威新材料有限公司
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