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本发明涉及引线框架粗化工艺技术领域,尤其是一种集成电路冲压引线框架粗化处理工艺,包括以下步骤:步骤一:将引线框架放入到粗化设备中,并且使引线框架中的芯片焊盘位于粗化区内,引脚位于非粗化区内;步骤二:向粗化区内注入粗化剂,使芯片焊盘被粗化;步骤三:完成粗化后将粗化区内的粗化剂排出;本发明通过设置冲洗机构,在引线框架完成粗化后,通过排污组件将反应后的粗化剂从第一粗化壳内排出,排出粗化剂壳,然后通过冲洗组件,向芯片焊盘表面喷射清洗液,以去除芯片焊盘表面残留的粗化剂,使得在将引线框架从粗化池内取出的过程
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117747437A
(43)申请公布日2024.03.22
(21)申请号202311543807.5
(22)申请日2023.11.20
(71)申请人天水华洋电子科技股份有限公司
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