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本发明涉及一种隧道磁电阻传感器及其使用的IrMn合金薄膜,包括衬底,和衬底以上的缓冲层、IrMn反铁磁层、人工合成反铁磁层、势垒层、自由层以及覆盖层;所述的IrMn反铁磁层IrMn合金薄膜,其中的Ir与Mn的原子比在膜的厚度方向上是变化的。该IrMn合金薄膜,采用独立的Ir和Mn靶材,通过共溅射制备,并在溅射过程中改变Mn靶溅射功率从而改变IrMn合金薄膜的组分。本发明公开的隧道磁电阻传感器及其使用的IrMn合金薄膜,其中Ir和Mn的组分沿着薄膜厚度的方向改变,显著提高了TMR率,具有优越的性能
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117750870A
(43)申请公布日2024.03.22
(21)申请号202311726927.9G01R33/09(2006.01)
(22)申请日2023.12.
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