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电子束光刻系统参数要求.docx

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    电子束光刻系统参数要求

    选购预算：1300万，具体参数要求如下：

    一、工作条件

    电源电压：AC230V10%，50Hz三相

    2.环境温度：15-25℃，电子枪区域21+/-0.25℃3.相对湿度：40-70%

    二、设备配置

    高斯束电子束曝光系统

    电子束曝光系统主机

    热场放射电子枪50KeV/100KeV可切换，电子枪寿命不低于8000-12023小时

    210mm*210mm运动范围激光干预样品台

    激光干预仪精度0.15nm

    自动动态对焦，像散矫正，写场畸变矫正系统

    自动激光高度测量

    升级125MHz图形发生器

    升级1mm大写

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