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本发明提供了一种蚀刻液的配方及其应用，所述蚀刻液的配方由如下重量百分比的组分组成：氟化铵30~35%，氢氟酸4~8%，氯化氢3~5%，表面活性剂0.1~0.25%，余量为超纯水，所述表面活性剂包括含氟醇与含氟羧酸。本发明通过加入含氟醇与含氟羧酸联用作为表面活性剂，能够降低蚀刻液的接触角大小，提高蚀刻液浸润性。本发明所述的蚀刻液浸润性优、表面张力低、气泡少，能够均匀蚀刻光刻胶下的二氧化硅薄膜，不产生二氧化硅残留，且对光刻胶无影响，具有很好的应用前景。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117757477A
(43)申请公布日2024.03.26
(21)申请号202311537861.9
(22)申请日2023.11.17
(71)申请人浙江工业大学
地址310014
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