一种光刻掩模优化方法、系统、电子设备与存储介质.pdfVIP

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2024-03-27 发布于四川
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一种光刻掩模优化方法、系统、电子设备与存储介质.pdf

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本发明提供了一种光刻掩模优化方法、系统、电子设备与存储介质，包括：将待优化的掩模版图或对应的目标曝光图形裁切成多个正多边形的分区块，并对各分区块进行标记，以使共顶点的每多个分区块在所述顶点的内角和为360度，且分别对应标记组合中的每一标记；并将目标曝光图形或掩模版图裁切成对应的各分区块；对于当前优化，基于当前掩模版图对应的曝光图形中对应的各分区块，与目标曝光图形中对应的各分区块之间的差异，确定当前掩模版图中当前标记的各分区块中图形各边缘段的移动方向和移动步长，进行边缘移动，获得优化后图形；若优化

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117761963A

(43)申请公布日2024.03.26

(21)申请号202311872543.8

(22)申请日2023.12.29

(71)申请人武汉宇微光学软件有限公司

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