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本申请涉及光刻胶技术领域,具体公开了一种正性光刻胶及其制备方法,正性光刻胶,包括以下重量份的原料:改性酚醛树脂10‑30份、光敏剂1‑5份、有机硅流平剂0.1‑0.3份和有机溶剂40‑70份;所述改性酚醛树脂为酚醛树脂经含硼硅倍半氧烷改性得到。本申请采用将硼元素引入硅倍半氧烷中,将硅倍半氧烷优异的耐热性与硼元素优异的热稳定性相结合,使得含硼硅倍半氧烷具有优异的耐热性和热稳定性;进而通过含硼硅倍半氧烷对酚醛树脂改性,可提高酚醛树脂的耐热性,从而提高了所制正型光刻胶的分辨率。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117761970A
(43)申请公布日2024.03.26
(21)申请号202311795454.8
(22)申请日2023.12.25
(71)申请人瑞红(苏州)电子化学品股份有限公
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