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一种掩模板蚀刻装置及蚀刻方法.pdfVIP

一种掩模板蚀刻装置及蚀刻方法.pdf

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    本发明涉及一种掩模板蚀刻装置及蚀刻方法，其中掩模板蚀刻装置包括：夹具；旋转轴，其与所述夹具固定连接；兆声波发生器，其被配置为向输入兆声波发生器内的清洗液发射兆声波；清洗液喷嘴，其与所述兆声波发生器连接，所述清洗液喷嘴被配置为向掩模板的背面喷淋带有兆声波的清洗液；保护罩，其罩设在所述兆声波发生器的上方，并具有供清洗液喷嘴伸出的开口；以及蚀刻液喷嘴。一种蚀刻方法，包括：使用夹具将掩模板夹起并上升至设定高度，其中掩模板的正面朝上；以及位于掩模板上方蚀刻液喷嘴将蚀刻液喷淋至掩模板的正面，同时输水管将清洗

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117761965A

    (43)申请公布日2024.03.26

    (21)申请号202311680502.9

    (22)申请日2023.12.08

    (71)申请人兴华芯（绍兴）半导体科技有限公司

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