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T/FSI099-2022
有机硅工业水污染物排放标准
1范围
本文件规定了有机硅工业企业生产设施的水污染物的排放限值、监测和监控要求。
本文件适用于现有有机硅工业企业或生产设施的水污染物排放管理,以及有机硅工业建设项目的环
境影响评价、环境保护设施设计、竣工环境保护验收及投产后的水污染物排放管理。
本文件规定的水污染物排放控制要求适用于企业直接或间接向其法定边界外排放水污染物的行为。
2规范性引用文件
下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中,注日期的引用文件,
仅该日期对应的版本适用于本文件;不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本
文件。
GB/T6920水质PH值的测定玻璃电极法
GB7472水质锌的测定双硫腙分光光度法
GB7475水质铜、锌、铅、镉的测定原子吸收分光光度法
GB/T11890水质苯系物的测定气相色谱法
GB/T11893水质总磷的测定钼酸铵分光光度法
GB11894水质总氮的测定碱性过硫酸钾消解分光光度法
GB/T11901水质悬浮物的测定重量法
GB/T15959水质可吸附有机卤素(AOX)的测定微库仑法
GB/T16488水质石油类和动植物油的测定红外光度法
HJ/T70水质高氯废水化学需氧量的测定氯气校正法
HJ/T83水质可吸附有机卤素(AOX)的测定离子色谱法
HJ/T91地表水和污水监测技术规范
HJ/T132水质高氯废水化学需氧量的测定碘化钾碱性高锰酸钾法
HJ/T195水质氨氮的测定气相分子吸收光谱法
HJ/T399水质化学需氧量的测定快速消解分光光度法
HJ485水质铜的测定二乙基二硫代氨基甲酸钠分光光度法
HJ486水质铜的测定2,9-二甲基-1,10-菲啰啉分光光度法
HJ493水质样品的保存和管理技术规定
HJ494水质样技术指导
HJ495水质采样方案设计技术规定
HJ505水质五日生化需氧量(BOD)的测定稀释与接种法
5
HJ535水质氨氮的测定纳氏试剂分光光度法
HJ536水质氨氮的测定水杨酸分光光度法
HJ537水质氨氮的测定蒸馏-中和滴定法
HJ636水质总氮的测定碱性过硫酸钾消解紫外分光光度法
HJ828水质化学需氧量的测定重铬酸盐法
1
T/FSI099—2022
T/FSIXXX-XXXX有机硅高氯废水化学需氧量的测定硝酸银预处理法
3术语和定义
下列术语和定义适用于本文件。
3.1
有机硅工业Organicsiliconindustry
指以金属硅及有机物为原料合成硅烷单体,以及以硅烷单体为原料进一步加工的工业。
3.2
有机硅工业废水Organicsiliconindustrywastewater
有机硅工业生产过程中产生的废水,包括工艺废水、污染雨水(与工艺废水混合处理)、生活污水、
循环冷却水排污水、化学水制水排污水、蒸汽发生器排污水、余热锅炉排污水等。
3.3
工艺废水processwastewater
有机硅工业生产过程中与物料直接接触后,从各生产设备排出的废水。
3.4
污染雨水pollutedrainwater
有机硅工业企业或生产设施区域内地面径流的污染物浓度高于本文件规定的直接排放限值的雨水
3.5
现有企业existingfacility
指本文件实施之日前,已建成投产或环境影响评价文件已通过审批的有机硅工业生产企业或生产设
施。
3.6
新建企业ne
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